Rendimento do Grupo

Resumos expandidos publicados em anais de congressos



Número total de itens: 1
(A1: 0, A2: 0, B1: 0, B2: 0, B3: 0, B4: 0, B5: 0, C: 0, Qualis não identificado: 1)

Legenda Qualis:

2005

1.   Zoccal, L. B. ; DINIZ, J. A. ; DOI, I. ; Jacobus W. Swart ; Daltrini, A. M. ; Moshkalyov, S. A.. The Efficacy of ECR-CVD Silicon Nitride Passivation in InGaP/GaAs HBTs. Em: DPS 2005 - 5th International Symposium on Dry Process, 2005, 2005, Jeju. DPS 2005 - 5th International Symposium on Dry Process, v. 1, p. 335-336, 2005.
[ citações Google Scholar | citações Microsoft Acadêmico | busca Google ]
Qualis: Não identificado (DPS 2005 - 5th International Symposium on Dry Process, 2005, 2005, Jeju. DPS 2005 - 5th International Symposium on Dry Process)


(*) Relatório criado com produções desde 1987 até 2013
Data de processamento: 18/05/2013 12:29:32